P02100 - SEMI P21 - Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment Revision:SEMI P21-92 (Reapproved 0703) - Inactive 装置のユーザは，ユーザの入力に依存せずに装置性能をトラッキングし，ユーザによる不正な入力やタイムリーではない入力に起因する不正確さをなくす必要がある。ユーザ入力なしで装置性能をトラッキングすることは，運転のシナリオにおいて手動介入を最小限にする必要がある300 mmウェーハの工場では重要である。EPTは，ホストコンピュータがオペレータやホスト入力なしに自動的かつ一貫性のある方法で装置の性能をトラッキングするために必要な装置データを取得できるようにする概念，動作，メッセージサービスを定義する。

装置のユーザは，ユーザの入力に依存せずに装置性能をトラッキングし，ユーザによる不正な入力やタイムリーではない入力に起因する不正確さをなくす必要がある。ユーザ入力なしで装置性能をトラッキングすることは，運転のシナリオにおいて手動介入を最小限にする必要がある300 mmウェーハの工場では重要である。EPTは，ホストコンピュータがオペレータやホスト入力なしに自動的かつ一貫性のある方法で装置の性能をトラッキングするために必要な装置データを取得できるようにする概念，動作，メッセージサービスを定義する。

Current edition approved by the Japanese Regional Standards Committee on June 1

exceptions

its use for materials acceptance is not recommended unless the parties involved establish the degree of correlation which can be expected

Polysilicon gates have the advantage of being identical to finished product in many instances

P02100 - SEMI P21 - Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment Revision:SEMI P21-92 (Reapproved 0703) - Inactive 装置のユーザは，ユーザの入力に依存せずに装置性能をトラッキングし，ユーザによる不正な入力やタイムリーではない入力に起因する不正確さをなくす必要がある。ユーザ入力なしで装置性能をトラッキングすることは，運転のシナリオにおいて手動介入を最小限にする必要がある300 mmウェーハの工場では重要である。EPTは，ホストコンピュータがオペレータやホスト入力なしに自動的かつ一貫性のある方法で装置の性能をトラッキングするために必要な装置データを取得できるようにする概念，動作，メッセージサービスを定義する。This guideline was technically approved by the Global Micropatterning Committee and is the direct responsibility of the Japanese Micropatterning Committee. Current edition approved by the Japanese Regional Standards Committee on April 28, 2003. Initially available at www. semi. org June 2003; to be published July 2003. Originally published in 1992. NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain